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自清潔聲屏障光催化涂層技術(shù)主要基于納 米級(jí)光催化材料在光照條件下產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性自 由基,能有 效分 解有 機(jī)污染物和殺滅微生物‌。 13833648003

自清潔聲屏障:光催化涂層技術(shù)的降噪與環(huán)保原理

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   自清潔聲屏障光催化涂層技術(shù)主要基于納 米級(jí)光催化材料在光照條件下產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性自 由基,能有 效分 解有 機(jī)污染物和殺滅微生物‌。該技術(shù)通過(guò)以下機(jī)制實(shí)現(xiàn)雙重功效:
   ‌降噪功能‌:特殊表面結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可改變聲波反射路徑,多 維降噪聲屏障降噪效果達(dá)13分貝以上‌
‌   自清潔功能‌:光催化反應(yīng)分 解表面有 機(jī)物,保持涂層長(zhǎng)期清潔‌。文章來(lái)源聲屏障http://www.sdmgxx.cn/。‌

 

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